PVD技術在半導體器件中的應用

時間：2024-07-18

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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【喜訊】鵬城半導體榮獲誠信企業及AAA級企業信用等級證書
良好的信用是企業的核*心*競*爭力，是企業的“金名片”，較是客戶的“安心石”2022年12月，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：公司簡介 - 鵬城半導體技術（深圳）有限公司）企業信用等級評價認證，經權*威*機構評審，鵬城半導體喜獲“AAA*級企業信用等級”證書及“AAA信用企業等級”牌匾。信用等級認證采用國*際通行的“四等十級制”評級等級，分為：AAA、AA、A、BBB等十個級別。AAA級是企
「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權專利證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統軟件》、《高真空濺射系統軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統軟件》4項軟件著作權**通過審批，經*人民共和國國家**考證，根據《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證
叮~鵬城半導體向您發來一封會議邀請函
2023年*二屆*三代半導體材料技術與市場研討會由半導體在線主辦，本屆會議于2023年3月30-31日在中國-蘇州合景萬怡酒店召開。*二屆*三代半導體材料技術與市場研討會提供協同創新的高質量交流平臺，推動國內三代半導體材料的學術研究、技術進步和產業發展，展示業內精英企業，凝聚行業發展共識。在此次會議，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）將帶來納米技術及**制造設備跟大家見面，其中包括
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4