化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備

時間：2022-04-11

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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詞條說明
鵬城半導體參加第十五屆中國微納電子技術交流與學術研討會
*十五屆中國微納電子技術交流學術研討會時間：2022年10月28-30日地點：廈門君泰酒店??鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點，尋求創新**與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。公司**業務是半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造。公司人才團隊知識
「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權專利證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統軟件》、《高真空濺射系統軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統軟件》4項軟件著作權**通過審批，經*人民共和國國家**考證，根據《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證
化學氣相沉積設備（CVD）-小型管式LPCVD設備
LPECVD是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4
鵬城半導體榮膺國家高新技術企業，引領納米與原子制造技術新征程
在科技飛速發展的當下，半導體行業作為現代信息技術的基石，正不斷推動著各個領域的創新與變革。近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司憑借其**的技術創新能力和在半導體領域的**貢獻，成功獲得國家**企業認定。這一殊榮不僅是對鵬城半導體過往努力的**，較標志著其在納米與原子制造技術領域的良好地位得到了*認證。鵬城半導體成立于 2021 年，由哈爾濱工業大學（深圳）與擁有多年實踐經驗的工程師團隊共