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因產品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業的研究與生產, 比如基片蒸發沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.E-Beam 鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣
氦質譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實現工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個配氣面板也需要測試整體漏率, 使用上海伯東德國 Pfeiffer?氦質譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設置為 5.5x
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
公司名: 伯東企業(上海)有限公司
聯系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
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