HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機

時間：2023-05-23

作者：伯東企業（上海）有限公司

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KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現可見光區（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM
美國 KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應用
上海伯東美國?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業, 半導體應用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區. 整體易操作, 易維護, 安裝于各類真空設備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機, lo
分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD
渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統?PLD脈沖激光沉積系統 PLD 可用來制備金屬和各種物質薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統的真空度和加快抽空時間, 經過伯東選用分子泵+分子泵組串聯組合的形式來提高系統的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產的 COM
氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產研發多工位高真空和高真空排氣臺, 實現多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統在內的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經過上海伯東推薦真空系統**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質譜檢漏儀 ASM 340D?