plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

時間：2023-03-20作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：87

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機,全自動點膠機,等離子清洗機等

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  詞條說明

• 等離子體CMOS工藝中應用于集成電路制造中WAT方法研究

  WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結構進行電性測試，它是反映產品質量的一種手段，是產品入庫前進行的一道質量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導體技術的發展，等離子體工藝已廣泛應用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損

• plasma設備表面聚合同樣是非常普遍的反應其一

  沉積層的存在有利于提高材料表面的黏結能力。在plasma設備對難粘塑料進行處理時，往往伴隨聚合、蝕刻、活化等形式會同時出現。? ? ? ?當材料表面有很高的光潔度要求時，要通過表面活化進行鍍膜，沉積，粘接等不至于破壞材料表面光潔度時，采用plasma設備進行活化。經等離子活化后的材料表面水滴浸潤效果顯著強于其它解決的方法。我們用plasma設備來做手機屏的清

• 在紡織和涂層領域_等離子表面活化機的使用情況有哪些呢？

  等離子表面活化機廣泛應用于紡織品后整理。按照整理的目的和要求，可以實現紡織品的多功能加工，大大提高產品的附加值。目前，它在紡織品中的應用主要包括以下幾類。1)等離子表面活化機三防整理傳統式的紡織品三防整理，往往需要經過軋制、烘焙、烘焙等工序，工藝流程長，需要耗費大量能量；而且需要昂貴的整理劑等添加劑。因此，其加工成本高，整理后往往會影響或犧牲纖維或織物本身的特性和性能。較重要的是，這些整理劑或交聯

• 等離子體刻蝕機清洗技術在塑料及橡膠行業中的應用

  等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應，將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質發生反應，形成揮發性反應物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備，是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離