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?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時,H2添加量對C2H6脫氫反應的影響:隨著H2濃度增加,C2H6轉化率,C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加,這表明H2的加入有利于C2H6轉化及C2H2、C2H4和CH4生成。產生上述結果的可能原因是:一方面氫氣因其導熱性好,可大量傳遞熱量,在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV,
冶金涂層方法用于各種工程產品中,以提高它們的抗蝕性,耐磨性,疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種,一種是在工件表面上附著一層物質;另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層,該層具有可以測定的濃度梯度,而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如,目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層,用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉
汽車手機配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機怎么樣:? ? ? ?由于大多數塑料表面張力較低,因此過去的很多設計都是采用替代材料,只要表面經等離子火焰處理機處理后,能達到噴漆或粘合等工藝標準,就**采用這種材料。近年來,成本、材料的使用性能等都日益成為產品設計中的主導因素,這促使汽車制造商開始關注更多的塑料品種。目前,PP、PC、ABS、SMC、各種彈性體
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試,就是在半導體硅片完成所有的制程工藝后,對硅圓片上的各種測試結構進行電性測試,它是反映產品質量的一種手段,是產品入庫前進行的一道質量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導體技術的發展,等離子體工藝已廣泛應用于集成電路制造中,離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損
公司名: 深圳子柒科技有限公司
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