氦質(zhì)譜檢漏儀 CVD 設(shè)備檢漏,滿足*三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)

時(shí)間：2023-04-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：81

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  詞條說明

• KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過膜層后不同波長(zhǎng)光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過率低, 被譽(yù)為對(duì)人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問題, 兼顧了功能性和性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

• KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣

• KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)

  ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對(duì)象的非接觸式修形及拋光,?精度可達(dá)亞納米級(jí),?被譽(yù)為拋光.?離子束拋光機(jī)的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商,?主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等,?提供精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù),?是一家精密光學(xué)元器件解