KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室
氦質譜檢漏儀中壓開關柜檢漏
氦質譜檢漏儀中壓開關柜檢漏應用于電力行業的中壓開關柜, 廣泛使用在發電廠, 變電站, 地區電網和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等. 中壓開關柜是一種金屬封閉開關設備, 它對中壓開關以外的其他設備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設備, **電力使用上的安全, 中壓開關柜內部通過吸和開關控制電路.開關吸合器需要檢漏中壓開關柜內部通過吸和開關控制電路, 吸合器內部真空環境, 如果有漏,
HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機
國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??下圖是某?OLED?鍍膜機廠家配置上海伯東美
KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發系統輔助鍍膜應用
上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發系統輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸