基于真空探針臺(tái)的紅外焦平面自動(dòng)測(cè)試的關(guān)鍵技術(shù)研究

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：40

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 高低溫探針臺(tái)-解釋塞貝克系數(shù)測(cè)量原理及系數(shù)

  塞貝克系數(shù)（Seebeck Coefficient）也稱為熱電偶效應(yīng)或Seebeck效應(yīng)，是指兩種不同導(dǎo)體（或半導(dǎo)體）材料在一定溫差下產(chǎn)生熱電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象。塞貝克系數(shù)是研究熱電材料（將熱能轉(zhuǎn)化為電能的材料）非常重要的一個(gè)參數(shù)，它用來(lái)衡量材料在一定溫差下產(chǎn)生的熱電壓。?塞貝克系數(shù)的測(cè)量方法有很多種，其中一種常用的方法是恒流法。準(zhǔn)備一個(gè)熱電偶，它由兩種不同材料的導(dǎo)線組成。然后將熱電偶的其中一個(gè)

• 快速退火爐系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)

  快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過(guò)程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對(duì)國(guó)內(nèi)開發(fā)和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對(duì)現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝

• 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

  1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬較快能達(dá)到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要

• 小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

  ?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢(shì)1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些