探針臺精準控制關鍵技術研究

時間：2023-10-07

作者：鄭州科探儀器設備有限公司

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小型濺射儀問題解答
小型濺射儀儀問儀答較近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上**的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是鎳是導磁
高低溫探針臺-解釋塞貝克系數測量原理及系數
塞貝克系數（Seebeck Coefficient）也稱為熱電偶效應或Seebeck效應，是指兩種不同導體（或半導體）材料在一定溫差下產生熱電動勢的現象。塞貝克系數是研究熱電材料（將熱能轉化為電能的材料）非常重要的一個參數，它用來衡量材料在一定溫差下產生的熱電壓。?塞貝克系數的測量方法有很多種，其中一種常用的方法是恒流法。準備一個熱電偶，它由兩種不同材料的導線組成。然后將熱電偶的其中一個
小型金屬濺射鍍膜機優點
?? ? ? ? ? ? ?鄭科探小型濺射儀功能優勢1、樣品臺旋轉，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋板可以保護樣品，提高薄膜質量3、帶有水冷系統，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些
磁控濺射沉積系統設計
?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機