石英領

時間：2014-10-22

作者：青島福潤德微電子設備有限公司

詞條
詞條說明
led專用爐
■ LED**爐特點?? ◆ 關鍵件全部采用進口件，具有高可靠性 ◆ 具有可編程的升、降溫功能???????? ◆ 具有斷電報警、**溫報警、極限**溫報警等多種安全保護功能。 ◆ 具有高抗干擾能力 ◆ 具有多種工藝管路，可供用戶隨意靈活配置?? ?★?賽瑞達可
立式真空爐
空爐（vacuum furnace）是真空環境中進行加熱的設備。在金屬罩殼或石英玻璃罩密封的爐膛中用管道與高真空泵系統聯接。爐膛真空度可達133×(10-2～10-4)h。爐內加熱系統可直接用電阻爐絲(如鎢絲)通電加熱，也可用高頻感應加熱。較高溫度可達3000℃左右。主要用于陶瓷燒成、真空冶煉、電真空零件除氣、退火、金屬件的釬焊，以及陶瓷-金屬封接等。目錄 1概述 2構造 3原理 4功能 5
太陽能擴散爐
太陽能電池擴散工藝及其設備太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力，使抽氣排風壓力這個參數保持穩定，抽氣排風壓力這個參數保持穩定，抽氣排風壓力的穩定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩定，在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排
LPCVD設備
LPCVD設備維修及應用低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術 LPCVD是大規模集成電路(LSI)和**大規模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術可以提高淀積薄膜的質量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內均勻性、片間均勻性不理想等問題，提