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? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD(等離子增強化學氣相淀積)設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100~600oC可調),特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化,用以提高器件和集成電路可靠性。目前,它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點: 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機(易漏大氣而
■ LED**爐特點?? ◆ 關鍵件全部采用進口件,具有高可靠性 ◆ 具有可編程的升、降溫功能???????? ◆ 具有斷電報警、**溫報警、極限**溫報警等多種安全保護功能。 ◆ 具有高抗干擾能力 ◆ 具有多種工藝管路,可供用戶隨意靈活配置?? ?★?賽瑞達可
太陽能電池擴散工藝及其設備 太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是:一種太陽能電池擴散工藝,在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力,使抽氣排風壓力這個參數保持穩定,抽氣排風壓力這個參數保持穩定,抽氣排風壓力的穩定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩定,使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩定,在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排
雙工位臥式真空爐 ? 青島福潤德微電子設備有限公司 ? 目??錄 ? 一、??????????設 備 特 點 二、??????????設 備 結 構
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