高溫實驗馬弗爐

時間：2020-08-29

作者：鄭州安晟科學儀器有限公司

詞條
詞條說明
【高溫熔塊爐】熔塊爐用途
熔塊爐用途用于陶瓷、玻璃、搪瓷等行業實驗室制備熔塊、玻璃低溫熔劑、搪瓷釉和結合劑，也可滿足小型企業作生產設備之用。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗控制面板配有智能溫度調節儀，控制電源開關、主加熱工作 /停止按鈕，電壓、電流表、計算機接口，以便隨時觀察本系統的工作狀態，本產品采用可靠的集成化電路，工作環境好，抗干擾，最高溫度時爐體外殼
呼和浩特3000度箱式電爐選安晟美華
呼和浩特3000度箱式電爐選安晟美華高溫真空氣氛爐子升溫后，不能突然破壞真空系統，不可打開高溫真空氣氛爐爐門。注意充大氣進去前,應關閉真空計開關,防止真空計老化。當溫度高于400℃時，不得急劇冷卻。對于真空加熱元件在溫度高、真空度不好以及冷熱變化大情況下，容易引起氧化。對于鉬加熱爐，正常使用維護中注意應冷卻到200℃以下方可停送保護氮氣。80℃以下才能打開爐門。冷卻系統是高溫真空氣氛爐的重要
智能溫控觸摸屏馬弗爐
智能溫控觸摸屏馬弗爐真空爐即真空熱處理爐，根據應用設備來區分，大概包含以下種類：真空淬火爐、真空釬焊爐、真空退火爐、真空加磁爐、真空回火爐、真空燒結爐、真空擴散焊爐、真空滲碳爐等。真空爐按加熱方式分為真空電阻爐、真空感應爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐（又稱電子轟擊爐）和等離子爐等。產品特點：爐膛采用日本節能技術吸附成型的氧化鋁多晶體無機材料，保溫性能好，耐用，拉伸強度高，純度高，爐
CVD管式爐
產品介紹：該款CVD系統, 可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式，加熱元件可分為電阻絲(1200℃以下使用)、硅碳棒(1400℃以下使用)、硅鉬棒(1700℃以下使用)等;CVD管式爐由供氣系統、加熱系統、真空系統等組成;1)加熱系統可以分單溫區、雙溫區、三溫區、多溫區等;2)真空系統可分為低真空和高真空，最高限真空可以達到10-4Pa(分子泵組);3)供氣系統是流量調節用戶可選質量流量計或浮子