HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護

時間：2024-01-11作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：41

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• KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

  ?帶通濾光片也叫干涉濾光片,?主要起到過濾不想要的雜光,?只讓想要的光通過的作用. 385nm?紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款?UV?紫外波段的濾光片,?廣泛應(yīng)用于熒光檢測,?多波段濾光片.?它具有高透過率,?其深截止可保探測器接收不到其它波長的光,?因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比.

• 上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導(dǎo)體管道中的應(yīng)用

  半導(dǎo)體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩(wěn)定的供應(yīng)到工藝設(shè)備內(nèi). 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環(huán)節(jié),?用來改變氣流方向,?調(diào)節(jié)氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

  國內(nèi)某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術(shù)規(guī)格:??下圖是某?OLED?鍍膜機廠家配置上海伯東美

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性