HVA 真空閥門(mén)應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

時(shí)間：2023-05-23作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：54

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過(guò)渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

  ??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜,?實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光區(qū)（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學(xué)濾光片,?主要應(yīng)用于可拍照手機(jī)攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車(chē)攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領(lǐng)域,?用于紅外光線對(duì)?CCD/CM

• KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)

  ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對(duì)象的非接觸式修形及拋光,?精度可達(dá)亞納米級(jí),?被譽(yù)為拋光.?離子束拋光機(jī)的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商,?主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等,?提供精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù),?是一家精密光學(xué)元器件解

• 美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3