多弧離子真空鍍膜技術特點

時間：2022-03-19作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：420

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  詞條說明

• 立式濺射鍍膜設備的優勢及應用行業

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現綠色環保生產。其中之一的汽車行業 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質量良好的涂層，工件需經研磨或拋光，并針對運輸進行防腐處理。一、研磨的表面不能出現淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（

• 磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 真空鍍膜設備的環境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設備的行業標準(包括真空鍍膜設備通用技術條件、真空離子鍍膜設備、真空濺射鍍膜設備、真空蒸發鍍膜設備)都對環境要求作了明確規定。只有滿足了真空鍍膜設備對環境的要求，才能使該設備正常運轉，加上正確的鍍膜工藝，方能生產出合格的鍍膜產品。真空對