多弧離子真空鍍膜技術特點

時間：2022-03-19作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：421

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• 真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積，包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經有了高質量的光學薄膜沉積案例，開發了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• 何時對零件執行真空浸漬

  是否應該在完成之前或之后進行真空浸漬？粉末涂料，油漆，鉻酸鹽轉化和陽極氧化是壓鑄零件的常用表面處理，可改善其性能或外觀。在某些壓鑄應用中，組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過密封內部泄漏通道而不會影響鑄件的任何其他特征來滿足這些要求。一般規則是，在任何表面拋光之前都應進行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣，化學相容性或預處理滲出而導致的任何失效模式。以下是在涂飾后進行浸

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質量良好的涂層，工件需經研磨或拋光，并針對運輸進行防腐處理。一、研磨的表面不能出現淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（

• 磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制