小型濺射儀鍍膜后掃描電鏡紡織纖維中的應(yīng)用

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：58

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

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  詞條說明

• 真空探針臺(tái)優(yōu)勢和適用于那些科研

  KT-Z1604T探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺(tái)的承載臺(tái)為60x60不銹鋼臺(tái)面，臺(tái)面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動(dòng)，三個(gè)方向均可在真空環(huán)境下精密移位調(diào)節(jié)，其中X

• 你并不了解小型濺射儀

  小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就

• 濕度和氣體濃度實(shí)驗(yàn)設(shè)備產(chǎn)品優(yōu)勢

  這個(gè)帶有濕度控制的氣體濃度發(fā)生器具有一系列強(qiáng)大的功能和性能參數(shù)，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準(zhǔn)確控制和檢測的應(yīng)用。以下是一些關(guān)鍵的性能參數(shù)和特性：- AI智能控制算法：采用**的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準(zhǔn)確穩(wěn)定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設(shè)備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應(yīng)各種應(yīng)用環(huán)境。- 高精度流量檢測：流量檢測精度可達(dá)到±1% F.S，流量線性

• 高溫真空探針熱臺(tái)的使用場景

  1000度高溫真空探針臺(tái)，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、納米技術(shù)、光電子、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域，具有以下用途：1. 半導(dǎo)體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導(dǎo)體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2. 材料性能表征：研究和測試材料在不同溫度下的電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)等性能，以及材料的穩(wěn)定性和可靠性。3. 納米結(jié)構(gòu)與納米器件研究：在納米尺度上測量納米結(jié)構(gòu)與納米器件的電學(xué)性能，及其在高溫真空環(huán)境中的穩(wěn)定性和