詞條
詞條說(shuō)明
? ? ? 平板狀氧化鋁的制備可以通過(guò)很多方法,主要有熔鹽法、水熱(醇熱)法、涂膜法、機(jī)械法以及液相間接制備法等。 ?1、熔鹽法?將所需組分的反應(yīng)物與2種鹽按照一定比例混合,然后在高于鹽的熔點(diǎn)的溫度下進(jìn)行煅燒,由于氧化物重新排布并迅速擴(kuò)散到液態(tài)鹽中進(jìn)行反應(yīng)而生成產(chǎn)物,冷卻后經(jīng)去離子水清洗除去其中的鹽分得到純凈產(chǎn)物的一種粉體合成方法。 ?
低鈉a-AL2O3系列產(chǎn)品特性:經(jīng)過(guò)特殊工藝加工而成,呈白色微粉,粒度均勻,具有耐熱,耐腐蝕,耐磨的特性。產(chǎn)品用途:主要用于電子,耐溫,耐壓絕緣器材,陶瓷壓片及高頻瓷件,在輕工業(yè)中的耐磨器件,耐磨磨具,也可以做汽車(chē)火花塞制品。產(chǎn)品理化指標(biāo):型號(hào)化學(xué)成分%物理性能%AL2O3SiO2Fe2O3Na2O灼減比重(g/m3)a-AL2O3?DN-0199.70.040.030.030.13.9
? ? ?磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片必要方式,然而磨削和研磨會(huì)導(dǎo)致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對(duì)生產(chǎn)微電子原件來(lái)說(shuō)是十分重要的。1簡(jiǎn)介半導(dǎo)體基片的結(jié)構(gòu)厚度已經(jīng)被降低到0.35微米,但拋光和平展化任然是制備微電子原件的必要準(zhǔn)備。因此,拋光半導(dǎo)體基底材料的任務(wù)將在集成電路的制造過(guò)程中的角度來(lái)限定。本次講座的主要重點(diǎn)放在工藝技術(shù),原材料和結(jié)構(gòu)性晶圓
平板狀氧化鋁拋光研磨微粉的特點(diǎn):1.此產(chǎn)品主要成分為工業(yè)氧化鋁,純度達(dá)到99%以上,具有化學(xué)惰性,優(yōu)異的耐熱性,耐酸堿腐蝕性2、晶體形狀為六角平板狀,區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等體積或者球形,此形狀使得磨料顆粒在研磨過(guò)程中平行于被加工工件(如半導(dǎo)體硅片等)表面,產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果,而非傳統(tǒng)的磨料滾動(dòng)研磨,因而不容易對(duì)工件表面產(chǎn)生劃傷,同時(shí)因?yàn)檠心毫κ蔷鶆蚍植荚谄桨孱w粒表面,顆粒破碎減少,耐磨性大幅度提高,
公司名: 淄博市淄川大眾磨料廠
聯(lián)系人: 莉娜
電 話(huà):
手 機(jī): 15953318881
微 信: 15953318881
地 址: 山東淄博淄川區(qū)楊寨村東
郵 編:
網(wǎng) 址: lynnagao.b2b168.com
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