低鈉氧化鋁

時(shí)間：2020-10-26作者：淄博市淄川大眾磨料廠瀏覽：271

淄博市淄川大眾磨料廠專(zhuān)注于平板狀氧化鋁研磨微粉等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 平板狀氧化鋁研磨微粉的制備工藝

  ? ? ? 平板狀氧化鋁的制備可以通過(guò)很多方法，主要有熔鹽法、水熱(醇熱)法、涂膜法、機(jī)械法以及液相間接制備法等。 ?1、熔鹽法?將所需組分的反應(yīng)物與2種鹽按照一定比例混合，然后在高于鹽的熔點(diǎn)的溫度下進(jìn)行煅燒，由于氧化物重新排布并迅速擴(kuò)散到液態(tài)鹽中進(jìn)行反應(yīng)而生成產(chǎn)物，冷卻后經(jīng)去離子水清洗除去其中的鹽分得到純凈產(chǎn)物的一種粉體合成方法。 ?

• 低鈉氧化鋁

  低鈉a-AL2O3系列產(chǎn)品特性：經(jīng)過(guò)特殊工藝加工而成，呈白色微粉，粒度均勻，具有耐熱，耐腐蝕，耐磨的特性。產(chǎn)品用途：主要用于電子，耐溫，耐壓絕緣器材，陶瓷壓片及高頻瓷件，在輕工業(yè)中的耐磨器件，耐磨磨具，也可以做汽車(chē)火花塞制品。產(chǎn)品理化指標(biāo)：型號(hào)化學(xué)成分%物理性能%AL2O3SiO2Fe2O3Na2O灼減比重（g/m3）a-AL2O3?DN-0199.70.040.030.030.13.9

• 半導(dǎo)體材料的研磨拋光

  ? ? ?磨削和研磨等磨料處理是生產(chǎn)半導(dǎo)體晶片必要方式，然而磨削和研磨會(huì)導(dǎo)致單晶硅晶片的表面完整性變差。因此拋光和平面化對(duì)生產(chǎn)微電子原件來(lái)說(shuō)是十分重要的。1簡(jiǎn)介半導(dǎo)體基片的結(jié)構(gòu)厚度已經(jīng)被降低到0.35微米，但拋光和平展化任然是制備微電子原件的必要準(zhǔn)備。因此，拋光半導(dǎo)體基底材料的任務(wù)將在集成電路的制造過(guò)程中的角度來(lái)限定。本次講座的主要重點(diǎn)放在工藝技術(shù)，原材料和結(jié)構(gòu)性晶圓

• 平板狀氧化鋁拋光研磨微粉

  平板狀氧化鋁拋光研磨微粉的特點(diǎn)：1.此產(chǎn)品主要成分為工業(yè)氧化鋁，純度達(dá)到99%以上，具有化學(xué)惰性，優(yōu)異的耐熱性，耐酸堿腐蝕性2、晶體形狀為六角平板狀，區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等體積或者球形，此形狀使得磨料顆粒在研磨過(guò)程中平行于被加工工件（如半導(dǎo)體硅片等）表面，產(chǎn)生滑動(dòng)的研磨效果，而非傳統(tǒng)的磨料滾動(dòng)研磨，因而不容易對(duì)工件表面產(chǎn)生劃傷，同時(shí)因?yàn)檠心毫κ蔷鶆蚍植荚谄桨孱w粒表面，顆粒破碎減少，耐磨性大幅度提高，