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詞條說明
9BF-1M5P精密雙面平面研磨機 9BF-1M5L精密雙面平面拋光機 主要用途 本機主要適用于硅片、光學玻璃、陶瓷片、石英晶體、半導體及其他硬脆材料的**雙面平面研磨/拋光。 主要特點 1.壓力精密控制:PLC+PT+精密減壓閥實現(xiàn)壓力開環(huán)控制 2.上盤減震裝置:動靜態(tài)均適用的減振彈性連接方式 3.精密傳動系統(tǒng):**小齒隙全齒輪傳動,傳動平穩(wěn) 4.下盤支撐:**結構軸承支撐 5.**速
平面研磨機的加工效率,**性能的研磨液**。研磨液在工件被加工過程中發(fā)揮著研磨、潤滑、冷卻等性能。 一般情況下,研磨液里的液體是油或是水,不考慮其他因素情況下,水的導熱性比油要好。在較近的研究發(fā)現(xiàn),加入納米級金剛石顆粒的研磨液有著較好的導熱性,這樣對研磨盤加工時的及時冷卻有著非常好的幫助。 平面研磨機的研磨加工,匹配的研磨液**平衡流動時熱量傳輸性能。低粘液像水和乙二醇能流動自如,但不能很好
拋光機先容以及利用要領闡明 拋光機拋光時,試樣磨面與拋光盤應jue對平行并勻稱地輕壓在拋光盤上,細致防備試樣飛出和因壓力太大而孕育發(fā)生新磨痕。同時還應使試樣自轉并沿轉盤半徑偏向來回移動,以制止拋光物局部磨損太快。在拋光歷程中要不停添加拋光液或別的拋光助劑,使拋光物連結肯定濕度。 濕度太大會削弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相出現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬混合物及鑄鐵中石墨相孕育發(fā)生“曳尾”征象;濕度太小時,由
平面研磨機在進行研磨拋光加工的過程中,合理選擇運動方式以及研磨軌跡對工件的精密度提升至關重要,研磨運動中較主要的是在于實現(xiàn)磨料的切削運動,因此運動狀況的好壞,將會直接的影響研磨加工時的精度以及生產(chǎn)的效率,所以,平面研磨機在研磨加工運動中,研磨運動應滿足以下幾點: 1、在加工工件時,整個研磨運動自始至終都應該力求平穩(wěn)。所以,工藝上對研磨、拋光盤自身的平面度要求很高,盤體的平面度可以采用特殊的熱處理
公司名: 蘇州博宏源機械制造有限公司
聯(lián)系人: 王經(jīng)理
電 話: 0512-65486261
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