鏈帶式焊接爐

時間：2014-10-22

作者：青島福潤德微電子設備有限公司

詞條
詞條說明
太陽能擴散爐
太陽能電池擴散工藝及其設備太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力，使抽氣排風壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力這個參數(shù)保持穩(wěn)定，抽氣排風壓力的穩(wěn)定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩(wěn)定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩(wěn)定，在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排
LPCVD設備
LPCVD設備維修及應用低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術 LPCVD是大規(guī)模集成電路(LSI)和**大規(guī)模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術可以提高淀積薄膜的質(zhì)量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優(yōu)點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現(xiàn)薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內(nèi)均勻性、片間均勻性不理想等問題，提
（單管程序氧化爐）
?單管氧化爐技術方案 ? ????????????? （單管程序氧化爐） ? ?????????????&n
等離子增強化學氣相淀積系統(tǒng)(PECVD)
? 等離子增強化學氣相淀積系統(tǒng)(PECVD) PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質(zhì)量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調(diào))，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產(chǎn)不可缺少的設備。產(chǎn)品特點： 1、膜質(zhì)量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機（易漏大氣而